普达特科技附属获得两台半导体低压化学气相沉积设备的样机订单

　　普达特科技发布公告，本公司控股69.2%的附属公司芯恺半导体设备有限责任公司，已从一个客户处获得两台半导体低压化学气相沉积设备的样机订单。该等样机订单的收入暂未确认。据董事经作出一切合理查询后所深知、尽悉及确信，于本公告日期，该客户及其最终实益拥有人为独立于本公司及其关连人士的第三方。

　　该等设备为用于12寸半导体晶圆制造的炉管LPCVD设备，分别针对LP-SiN与ALD-SiN两类关键的薄膜沉积工艺，已经历前期的测试验证，将分别于2025年5月19日与2025年6月25日交付至客户的晶圆厂。相比国产的同类设备，该等设备在技术上可实现更高的填充深宽比、均匀性、台阶覆盖率与更低的污染，此外该等设备拥有更高的批次生产效率，且具备多种工艺选择的兼容性。相比海外供应商的同类设备，该等设备具有同等水平的技术性能与更优的性价比，可为客户提供更具综合竞争力的解决方案。